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工業電爐的應用:化學鍍工藝可制備粉末的物相分析及粒度
來源:開封市華能電爐有限公司 | 作者:huanengdl | 發布時間: 2017-05-25 | 2278 次瀏覽 | 分享到:
制備的納米Ni、Ni-P、Ni-B粉末的TEM照片如圖2所示。照片中黑色部分為納米粉末,粉末周圍包裹的半透明部分為制備工藝添加劑PVP。
    對制備的納米Ni、Ni-P及Ni-B粉末的XRD表征。Ni粉末的XRD譜圖的兩個尖  峰為Ni的特征衍射峰,分別對應的晶面間距為d=2.03、1.76,與Ni(111)、(200)晶面的標準卡片值相吻合,因此制備的Ni粉末為面心立方晶體;由于粒徑細小,各衍射線與一般衍射線相比有些寬化;測量Ni(lll)面半寬高計算納米鎳粉的平均粒徑,因為非晶態合金長程無序的特點使其衍射類型為連續的寬帶而不是分離的尖峰;相對NiP粉末,Ni-B粉末的彌散峰寬化更厲害,可見Ni-B粉末的非晶化程度應該更明顯。XRD圖中未見氧化物峰,說明制備工藝中加入的PVP起到一定的保護作用。
    粉末的組織形貌和粒度
    制備的納米Ni、Ni-P、Ni-B粉末的TEM照片如圖2所示。照片中黑色部分為納米粉末,粉末周圍包裹的半透明部分為制備工藝添加劑PVP。可以看出Ni粉末基本呈球形,分散性較好,平均粒徑為60nm左右.Ni-p、Ni-B非晶合金粉末呈現松散的聚集狀態,形狀不規則;Ni-P、Ni-B粉末都有明顯的團聚,Ni-P更為嚴重,可見PVP對超細Ni-P、Ni-B粉末的穩定性和分散性改善效果不明顯,但分散的Ni-P、Ni-B粉末也呈類球形;Ni-P粉末粒徑最小可至10nm,但粒徑分布較寬能達到lO~80 nm,Ni-B粉末粒徑分布較窄為30~50 nm。與XRD結果比較說明納米Ni粉末是以納米Ni晶的團聚體存在的,Scherrer公式的計算結果有較大的誤差,一般都比TEM觀測結果較小,但也說明納米Ni晶的團聚導致了TEM觀測的Ni粉末粒徑較大。非晶態合金從熱力學上講處于亞穩態,具有無定型結構,活性高于相應的晶態合金,所以納米Ni-P、Ni-B非晶合金粉末團聚相對納米Ni晶粉末更嚴重。根據納米粉末的熱穩定性、分散性,可通過其制備工藝以及后處理工藝來改善,本文作者正在研究改進制備工藝,以期較大程度地提高納米Ni、Ni-P、Ni-B粉末的穩定性,從而達到工業化應用的目的。
    (1)采用改進的化學鍍工藝可制備純度較高的納米Ni、Ni-P及Ni-B粉末。制備的納米Ni粉末平均粒陘為60 nm,面心立方晶體,粉末呈現球形;納米Ni-P及Ni-B為非晶體,粉末呈現松散的聚集狀態;Ni-P粉末粒徑最小可至10 nm,但粒徑分布較寬能達到10~80 nm,Ni-B粉末粒徑分布較窄為30~50 nm。
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